濺射靶材

濺射靶材主要用于真空鍍膜設備中，通過物理氣相沉積（PVD）在基片上涂覆薄膜層，以增加新的功能或創建微小的連接，如薄膜晶體管（TFT）。

用于制備濺射靶材的材料種類繁多，主要取決于最終的用途，因此既可以由純金屬制成，也可以由非常復雜的合金材料制成。

先導薄膜材料為(wei)各(ge)行業客戶(hu)提(ti)供(gong)不(bu)同材料所制成的平面靶材和旋轉靶材，我(wo)們的制備技術先進，保證產品達到最佳的使用性(xing)能(neng)。

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