濺射靶材

濺射靶材主要用于真空鍍膜設備中,通過物理氣相沉積(PVD)在基片上涂覆薄膜層,以增加新的功能或創建微小的連接,如薄膜晶體管(TFT)。

用于制備濺射靶材的材料種類繁多,主要取決于最終的用途,因此既可以由純金屬制成,也可以由非常復雜的合金材料制成。

先導薄膜材料為(wei)各(ge)行業客戶(hu)提(ti)供(gong)不(bu)同材料所制成的平面靶材和旋轉靶材,我(wo)們的制備技術先進,保證產品達到最佳的使用性(xing)能(neng)。

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