鉭(tan)靶被諸多(duo)使用于(yu)半導(dao)體設備、光學反應、帶(dai)磁手(shou)機存儲(chu)物質包括耐氧(yang)化(hua)、耐氧(yang)化(hua)元件(jian)等這(zhe)個領域的(de)電鍍(du)。

要素英文符號:Ta
飽和度:3N5+
的形狀:水平線靶；回轉靶
顏色:深暗色重金屬
主要硬度:16.54g/cm3
通常厚度:平面圖靶: 500x500x30mm
電動機靶: L4000mm
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