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濺射靶材主要用于真空鍍膜設備中，通過物理氣相沉積（PVD）在基片上涂覆薄膜層，以增加新的功能或創建微小的連接，如薄膜晶體管（TFT）。
用于制備濺射靶材的材料種類繁多，主要取決于最終的用途，因此既可以由純金屬制成，也可以由非常復雜的合金材料制成。
先(xian)導薄膜材料為(wei)各行業客戶提供不同材料所制(zhi)成的平面靶(ba)(ba)材和旋(xuan)轉靶(ba)(ba)材，我們的制(zhi)備技術先(xian)進，保證產(chan)品達到(dao)最佳的使(shi)用(yong)性能。
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