濺射靶材

濺射靶材主要用于真空鍍膜設備中,通過物理氣相沉積(PVD)在基片上涂覆薄膜層,以增加新的功能或創建微小的連接,如薄膜晶體管(TFT)。

用于制備濺射靶材的材料種類繁多,主要取決于最終的用途,因此既可以由純金屬制成,也可以由非常復雜的合金材料制成。

先(xian)導薄膜材料為(wei)各行業客戶提供不同材料所制(zhi)成的平面靶(ba)(ba)材和旋(xuan)轉靶(ba)(ba)材,我們的制(zhi)備技術先(xian)進,保證產(chan)品達到(dao)最佳的使(shi)用(yong)性能。

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